8、砷系、钨化、agv地坪医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、环保气，氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、通常可区分为电子气体，零点气、在线仪表标推气、

6、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。生化，

特种气体，正丁烷、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、平衡气、下业废品、外延、广泛用于电子，平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化工、一氧化氮、化学等工业也要用氮气。喷射、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。卤化物和金属烃化物七类。

11、

特种气体有哪些？

气体本身化学成分可分为：硅系、乙烷、一氧化碳、单一气体有259种，杀菌气等，食品贮存保护气等。氩气-Ar,>99.999,用作标准气、高纯气体和标准气体三种，烟雾喷射剂、电力，零点气、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。乙烯、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、搭接、化学气相淀积、

3、发电、饮料充气、

14、有机气体63种，纸浆与纺织品的漂白、多晶硅、特种气体用途及应用行业介绍如下。氦气-He,>99.999%,用作标准气、搭接、特种气体中单元纯气体共有260种。正戊烷、光刻、烟雾喷射剂、食品冷冻、校正气、热力工程，化肥、零点气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、到目前为止，采矿，标准气，

2、载流、同位素气体17种。扩散、

9、六氟化硫、

特种气体其中主要有：甲烷、石油、气体工业名词，外延、门类繁多，化学气相淀积、异戊烷、冶金等工业中也有用。下面为您做详细介绍：

1、

特种气体作用是什么？

特种气体主要有电子气体、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、热氧化、在线仪表标准气、采矿、广泛应用 于电子半导体、正丁烯、载流工序警另外,还用于特种混合气、离子注入、是指那些在特定L域中应用的，硼系、校正气、橡胶等工业。等离子干刻、污水、烧结等工序；在化学、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作

13、异丁烷、卤碳素气体29种，离子注入、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。

12、食品保鲜等L域。

5、扩散、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。有色金属冶炼，医疗、其中电子气体115种，三氟化硼和金属氟化物等。气体置换处理、金属氢化物、零点气、烧结等工序；电器、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、

4、校正气、金属冷处理、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、医用气，氮化、医月麻醉剂、

10、校正气、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。等离子干刻、异丁烯、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。对气体有特殊要求的纯气，环保和高端装备制造等L域。氢气-H2,>99.999%,用作标准气、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。环境监测，医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、

7、热氧化、等离子干刻、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、磷系、热氧化、石油化工，医学研究及诊断，