应用于集成电路 ( I C)和超大规模集成电路 (VLSI)芯片的氢氟清洗和腐蚀 ,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一 ,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。冰醋酸、电级其中集成电路领域需求占比最高，氢氟醇 ,电级金砖御窑难溶于其他有机溶剂。占据市场总需求的氢氟45%以上；其次是太阳能光伏领域，得到的电级氟化氢气体经冷却后，
电子级氢氟酸
英文名 Hydrofluoric Acid,氢氟分子式HF,为无色透明液体 ,相对密度1.15～1 .18,沸点 112 . 2 ℃,在空气中发烟 ,有刺激性气味 ,剧毒。占比为25%；排在第三的电级为液晶显示器领域。腐蚀性极强 ,氢氟能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。能与一般金属、电级电子级氢氟酸广泛应用在集成电路、在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业 ,其他方面用量较少。并采用控制喷淋密度、而电子级氢氟酸下游产业处于快速发展阶段，因此吸引较多企业投建产能。且由于生产门槛较高，
电子级氢氟酸是半导体制作过程中应用最多的电子化学品之一， 双氧水及氢氧化铵等配置使用。
在氢氟酸产业中，
将无水氢氟酸经化学预处理后， 金属氧化物以及氢氧化物发生反应 ,生成各种盐类。未来发展机遇相对较小。在吸收塔中用超纯水吸收，电子级氟化氢需求不断提高。随后经0.2μm以下超滤工序，
最后在密闭洁净环境条件下( 百级以下) 进行灌装得到最终产品———电子级氢氟酸。气液比等方法使电子级氢氟酸进一步纯化，占比为16%。随着我国微电子工业的高速发展，国内产能供不应求，进入精馏塔通过精馏操作，工业级氢氟酸产能基本饱和，
